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  • 超薄化、轻量化意味着微纳结构的运用。然而,大面积3D微纳结构的设计与制造面临巨大挑战。首先,大面积3D微纳结构涉及海量数据处理与设计。例如,一个超薄导光器件上的微透镜有数千万个以上;一件口径10mm以上的超透镜,含有数十亿到数百亿个数据单元;一幅大尺寸透明电路传感器涉及数十Tb以上的数据量;大口径薄膜成像透镜涉及精确3D形貌,数据量会数量级增大;第二,将设计数据转换成微纳结构的途径与效率。如何将这么庞大数据直接转换成微纳3D结构?不仅需要高速率海量数据并行处理、压缩、传输与转化技术,还需转换系统的高精度、可调性与可靠性;第三,先进工艺技术保障。大面积衬底伴随着不平整度远大于光刻系统的焦深,因此,必须解决衬底不平整性对微结构分辨率和保真度的影响,解决与成像焦深的矛盾,才能实现高保真3D微结构的高效率制备。

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  • 研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实现薄膜成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国际关注的重大共性难题。

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  • 在微结构打印方案中,已有的3D打印技术存在诸多限制,未有效解决器件尺寸与精度之间的矛盾、也存在3D结构打印保真度与可靠性不协调的难题。1、利用超快激光的“双光子效应”的3D打印,分辨率可达0.1微米,但串行写入模式,效率极低、对环境稳定性要求极高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗时太长,所以,可靠性降低;受制于非线性材料特性和处理工艺,打印一致性很难保障;2、光固化3D打印(SLA),利用胶槽供胶与DLP投影光逐层打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面积数毫米。由于累积曝光效应,对胶槽中光固化胶的吸收特性有严格要求,易导致打印的结构展宽,尤其对大深宽比微结构的打印,失真严重。

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  • 苏大维格依托多参数调控的纳米光栅直写设备 Nanocrystal200、纳米光栅曝光与复制工艺,实现纳米全息波导镜片复杂结构单元的精确制备,纳米结构周期调控精度达0.1nm。该自主研发的纳米图形化光刻设备,可实现纳米光栅深度、倾角、周期分布和空间取向的调控,输出的空间成像的光场均匀。攻克了波导镜片的制备的稳定性、一致性工艺,以及波导镜片的工程化和批量化的相关关键技术。支持更多的设计自由度和制作具有大FOV的纳米全息波导镜片。

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  • 近日,公司全资子公司常州华日升反光材料有限公司(简称“华日升”)收到重庆路易通交通设施有限公司(简称“重庆路易通”)正式下发的《中标通知书》,华日升在重庆路易通2018年11月9日机动车号牌用反光膜招标中综合排名第一,确定为该项目第一中标候选人。公司将在约定时间内与重庆路易通签订正式采购合同并向其供应产品,履行中标及供货责任。

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  • 近日,公司全资子公司常州华日升反光材料有限公司收到广东采联采购科技有限公司正式下发的《中标通知书》,华日升中标广东省公安厅2018-120新能源汽车号牌生产半成品及烫印膜耗材项目,采购预算金额1876.80万元(该采购预算为两家中标单位合计总价,华日升中标总价约为938.4万元)。

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  • 团队发明了“涂层-曝光-分离”的新的打印模式,获得了更高的纵向(分层)打印精度。 团队开发的逐层涂布,逐层打印微结构的光固化分离的新型SLA 3D打印技术,使3D物体纵向打印精度显著提高。攻克了以往SLA 3D打印机,后继打印层过程对已打印层有较大影响的共性难题。研制的“微纳3D打印系统Multi-μ 3D Printer”,可打印极高精度的微3D结构。横向精度(特征结构)5μm-25μm(投影分辨率1微米),纵向精度(层厚)2μm-20μm。

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  • 近日,首届“江苏省专利发明人奖”获奖名单公布,共有10名创新创业发明人获奖,其中3位来自苏州,其中之一便是苏州大学光电信息科学与工程学院研究员、苏州大学高新技术产业研究院院长、苏州苏大维格光电科技股份有限公司董事长陈林森。

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